Научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний «Элемент», разработали первые в стране установки для изготовления интегральных микросхем по технологии 65 нанометров на пластинах диаметром 200 и 300 миллиметров. Об этом сообщает «Ведомости» со ссылкой на компанию.
Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов отметил, что данный результат делает Россию одним из технологических лидеров, так как страна стала лишь четвертым производителем в мире, способным выпускать такие комплексы.
В то время как ведущие компании выпускают чипы по технологии 2 нанометра и меньше, 65 нанометров — это уровень продукции, использовавшейся 20 лет назад. Тем не менее, микросхемы на основе технологий 28-90 нанометров продолжают активно применяться в автомобильной и авиационной отраслях, а также в системах автоматизации.
Заместитель главы Минпромторга Василий Шпак подчеркнул, что установки для 65 нанометров на 300-миллиметровых пластинах удовлетворят потребности отечественной микроэлектроники. Он также добавил, что модульность платформы поможет отработать процессы и станет основой для перехода к более современным технологиям.
Разработчики планируют экспортировать оборудование в другие страны и в следующем году намерены продемонстрировать установки в Китае. «Такое оборудование не производится в больших количествах. В наших условиях один-два комплекта в год будет значительной победой», — отметил Кравцов.
В то же время, в конце прошлого месяца Шпак сообщал о нехватке финансирования для программы развития электронного машиностроения в России. В прошлом году из запланированных 43,3 миллиарда рублей разработчики смогли получить лишь 23,7 миллиарда, а в 2025 году — 15,7 миллиарда из предполагаемых 40 миллиардов.
Ранее сообщалось, что план по развитию электроники и микроэлектроники в стране до 2030 года включает серийный выпуск микросхем по технологии 65 нанометров в 2028 году.
